Máquina de polimento química totalmente automática

NegociávelAtualização em04/22

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Visão geral

Do ponto de vista econômico do laboratório de pequena escala, a polidora mecânica química tipo Rpo-6 é usada para desenvolver o processo CMP, a opção de substituição do chip de polimento, e sua alta flexibilidade pode polir qualquer material. Sondas substituíveis para medição de desgaste de atrito e polimento in situ para processamento padrão de chip de 6 polegadas e transporte de produtos de consumo

Detalhes do produto

Tipo RPO-6Máquina de polimento químicaCaracterísticas principais

Tecnologia

O polimento químico-mecânico (CMP) é o processo usado para planejar os chips ou outros materiais em processamento, enquanto a técnica de polimento é a utilização de sinergias físicas e químicas para polir os chips, dando uma força de carga à base da amostra armazenada na amostra de polimento, quando o polimento contém ambos os componentes do molidor e do químico ativo passa pelo fundo, a almofada de polimento e a amostra começam a contar para girar.

Frição in situ

O instrumento estuda as técnicas básicas de polimento medindo o nível de atrito e desgaste in situ, enquanto as mudanças no atrito podem ser usadas para descrever valores aproximados da taxa de remoção.

Desgaste da junta no local

A taxa de desgaste in situ pode ser usada para reagir ao estado da junta em situações de polimento, regulamento, etc.

Estado

Ajustamento in situ e não in situ

Tamanho do chip

Os fixadores de chip fáceis de substituir permitem polir amostras com tamanhos de 1 polegada a 6 polegadas no mesmo tester.

bomba

Bombas programáveis independentes fornecem lama, água e outros produtos químicos.

Bens de consumo e consultoria relacionada

Os materiais de polimento padrão que oferecemos incluem não apenas instrumentos, mas também uma variedade de produtos de consumo (polimento líquido, almofadas de polimento, etc.), enquanto nossa equipe científica também oferece consultoria sobre o desenvolvimento e otimização de processos.

Tipo RPO-6Máquina de polimento químicaespecificação

Carga de chip artificial

Sistema de Pesquisa e Desenvolvimento CMP

Ajustamento in situ e não in situ

Tubos de lama e água com bombas programáveis

Alta dureza e bom controle de força

Diâmetro do rolo 340mm

amostra de 6 polegadas

Escolha de atrito in situ e desgaste da junta

Dimensões de impressão w870x, d800x, h870mm

Aplicações - CMP, MEMS, teste de bens de consumo

Aplicações

Polimento

Desenvolvimento de processos

Desenvolvimento Ambiental

Desenvolvimento de líquidos de polimento

Características da almofada de polimento

Desenvolvimento de partículas

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